大行報告 | 小摩：ASML擬2028年產逾110部EUV，AI需求強勁推動擴產

　　《經濟通通訊社16日專訊》摩根大通表示，ASML(US.ASML)正研究進一步擴大極紫外光(EUV)光刻機產能，目標2028年生產逾110部，以應對人工智能(AI)帶動的晶片需求。小摩分析師與ASML財務總監會面後指出，管理層形容目前需求「非常強勁」，現時大部分新訂單已安排於2028年交付。

　　ASML早前表示，2027年EUV產能接近售罄，全年至少可生產80部，並計劃較2026年增加約30%產能；公司同時研究2028年再增產約30%。

　　小摩認為，現階段擴大EUV產量的主要限制並非供應鏈，而是機器組裝速度，預計英特爾(US.INTC)2027年有望再次成為重要客戶；馬斯克籌建的Terafab亦被視為潛在新客戶。ASML近期亦正加快High-NA EUV布局，英特爾已累計處理逾100萬片晶圓，其他主要晶片商料由2028年起逐步投入量產。(kk)