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推介度:
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台積電
  • 370.600
  • +5.110
  • (+1.398%)
  • 最高
  • 378.000
  • 最低
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  • 成交股數
  • 1.32千萬
  • 成交金額
  • 25.66億
  • 前收市
  • 365.490
  • 開市
  • 375.590
  • 盤後
  • 370.504
  • -0.096
  • (-0.026%)
  • 最高
  • 371.280
  • 最低
  • 370.001
  • 成交股數
  • 87.92萬
  • 成交金額
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  • 買入
  • 370.500
  • 賣出
  • 370.680
  • 市值
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  • 貨幣
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  • 每宗成交金額
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  • 波幅
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  • 交易所
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  • 市盈率/預期
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  • 振幅率
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報價延遲最少15分鐘。美東時間: 10/04/2026 19:24:15
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

24/03/2026 22:56

美股動向|ASML股價年飆近八成,分析指長線仍具增長潛力

  《經濟通通訊社24日專訊》半導體設備龍頭ASML(US.ASML)過去一年股價累漲79.5%,大幅跑贏科技板塊26.8%及納數2.4%升幅。儘管現價反映2027年預測市盈率高達35.1倍,分析認為長線投資者仍可關注其增長潛力。

 

  超大規模雲端服務商包括亞馬遜(US.AMZN)、微軟(US.MSFT)、谷歌母公司Alphabet(US.GOOGL)及Meta(US.META)持續擴建AI數據中心,帶動台積電(US.TSM)、三星及英特爾(US.INTC)等晶圓代工廠增購ASML極紫外光(EUV)光刻機。ASML獨家壟斷的EUV技術歷時17年研發,投入逾60億歐元突破多重技術瓶頸,現已成為3納米以下先進製程不可或缺的關鍵設備。

 

  去年第四季(2025年第四季)ASML接單總額中,EUV系統佔比達56.1%,但僅兩台屬最新高數值孔徑(High-NA)機型。分析指出,隨AI晶片持續微縮化,晶圓廠將加速升級至高NA EUV設備,為ASML創造持續增長動能。現階段高NA EUV滲透率仍低,技術門檻與量產能力形成雙重護城河。

 

  除EUV系統外,ASML深紫外光(DUV)設備仍佔營收重要比重,主要用於成熟製程與輔助EUV生產。現役設備維護服務(以DUV為主)貢獻約25%收入,提供穩定現金流支撐研發投入。

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